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      技術文章/ Technical Articles
      
        
      
            我的位置：首頁  >  技術文章  >  半導體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設備
        
      
        
      
    
      
	
      
        
      
    
      產(chǎn)品分類 / PRODUCT
      
    
       
		
      
        	
      
         	 	
      
          		
      
         		
      
       		
      
   		 
      
        
    
      

      
 
    
      
    
      
    	
      
        	
      半導體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設備
      
            
      更新時間：2024-09-23      瀏覽次數(shù)：626
      
            
      
            	
      半導體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設備
      半導體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設備
      波長185納米、254納米
      目的清潔/修改
      行業(yè)半導體制造
      待安裝設備半導體清洗設備
      UV照射設備用于清洗半導體晶圓。紫外線照射會產(chǎn)生臭氧，去除晶圓表面的有機物。半導體晶圓紫外臭氧清洗設備可用于原型/開發(fā)和批量生產(chǎn)。原型機和開發(fā)機是半自動的，生產(chǎn)能力低，而量產(chǎn)機是自動化機。
      UV照射設備采用185nm和254nm汞燈作為光源。當185nm紫外線被氧氣吸收時，產(chǎn)生臭氧（O3）并產(chǎn)生活性氧。
      技術文件《審查半導體制造領域的紫外線照射設備以實現(xiàn)成本降低》

      這個應用程序用過的解決問題的例子
      • 更換晶圓周邊曝光光源，成本降低30%以上
        更換晶圓周邊曝光光源，成本降低30%以上

        • 目的
          接觸
        • 行業(yè)
          半導體制造
        • 設備
          涂布機開發(fā)商
        • 波長
          365nm
        • 任務
          初始成本和運行成本降低


      
            
      
            
		
      
    
       	
	
      

      




      
	
      
    	
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